Wetenschappers van onder meer het Singaporees Instituut voor Materiaalonderzoek en Ontwikkeling werken momenteel aan de ontwikkeling van de dunste metalen lijnen die ooit zijn gemaakt. Het is de bedoeling dat deze in de toekomst voor steeds kleinere toestellen worden gebruikt.
De andere teams die aan het project meewerken zijn die van de Universiteit van Cambridge (Engeland) en Sungkyunkwan (Zuid-Korea). De metalen lijnen die ze al hebben ontwikkeld zijn alleen te bezichtigen met een microscoop. Om tot dat resultaat te komen werd een combinatie van materialen en technieken gebruikt.
Organometaal
Allereerst gaat het hier om organometaal, een combinatie van metalen en organische onderdelen. Die worden op hun beurt dan weer gecombineerd met elektronenstalen en een gasbehandeling, zodat de organische delen zich op een uniforme manier kunnen verdelen.
Dikte
Met behulp van deze techniek beweren de wetenschappers een metaallijn met een dikte van slechts zeven nanometer te hebben gemaakt. Natuurlijk zijn de lijnen nog lang niet overal even dik, maar de afwijkingen bedragen nooit veel meer dan 2.9 nanometer. Dat is veel beter dan verwacht, want de wetenschappers gunden zichzelf in 2010 nog een afwijking van 3.2 nanometer. In 2011 moet dat 2.8 nanometer zijn. Dat doel lijkt dus haast al te zijn bereikt.
Elektronica
“Dergelijke ontwikkelingen zijn belangrijk voor elektronische apparatuur,” zegt het Singaporese Instituut in een mededeling. “Wat wij tot dusver hebben gepresteerd bewijst dat doorlopende metalen lijnen wel degelijk zo klein als vier nanometer kunnen gaan.”
Eindproduct
Microscopisch kleine metalen lijnen zouden gebruikt kunnen worden om elektronische signalen over te brengen in kleine stroomcircuits. Omdat alles minder plaats inneemt zal het eindproduct sowieso kleiner zijn. Of dit de prijs omlaag haalt is nog niet duidelijk.
De wetenschappers zijn van plan hun bevindingen deze maand in het wetenschappelijk blad Advanced Functional Materials te publiceren.
